在半导体及高端制造领域，表面研磨抛光技术堪称决定产品质量与性能的核心环节。北京艾姆希半导体科技有限公司自 2015 年成立以来，凭借传承自欧洲的 50 余年半导体核心技术，在表面研磨抛光设备的研发与应用上持续发力，成为行业内具有创新力的企业代表。

     北京艾姆希的技术及工艺中心设立于苏格兰大学城，这里汇聚了欧洲深厚的技术积淀。依托于此，公司不断推动设备工艺的持续突破。以其双面抛光机为例，压力闭环控制技术能够实时监控校准，精度可达 2nm，这一数据在行业内处于较高水平。对于半导体级应用，设备配备 4 寸 3 腔抛光头，支持 100 + 工艺程序存储，还可根据不同需求进行多工位定制。这种高度的定制化和精准控制，使得北京艾姆希的设备能够满足半导体制造中极为严苛的工艺要求。

     同时，北京艾姆希注重技术的前瞻性研发。在材料处理及工艺表面处理技术等方面，公司具备较强的技术实力。以 GNAD - E 系列精密研磨抛光系统来说，该系统覆盖半导体材料、光电材料等广泛的应用领域。它可用于硅、碳化硅、氮化镓等多种材料半导体材料芯片的研磨减薄，底面、表面或端面的化学机械抛光等。主机及所有的零备件可选择全防腐或非防腐材料，通过有线或者无线（蓝牙）方式连接控制系统，展现出强大的适应性和灵活性。